En el área de litografía, basta con un desvío de medio grado en la temperatura durante el proceso de secado del fotorevestimiento para que las líneas que se querían mantener estables se vuelvan inestables. No se puede lograr una alta tasa de producción si los puntos de control varían constantemente. Por eso hemos diseñado módulos de calentamiento por infrarrojos que mantienen el comportamiento térmico dentro de los límites aceptables, turno tras turno.
Lo que es importante desde el punto de vista técnico
Utilizamos emisores de infrarrojos de onda corta con filamentos de respuesta rápida, lo que permite un arranque rápido y un estado estable. La uniformidad a nivel de wafer es de ±0,1°C, y la repetibilidad entre lotes es de ±0,2°C. El control se realiza mediante sistemas de pirometría en bucle cerrado y algoritmos PID, lo que permite correcciones en menos de un segundo, evitando así que la temperatura aumente cuando se abre la puerta del equipo. Los módulos funcionan en salas limpias de clase 1-100, y su estructura de cuarzo/cerámica está diseñada para no generar partículas, sin emisiones gaseosas ni contaminación alguna.
Por qué funciona bien en el proceso de tratamiento del fotorevestimiento
El secado suave y el secado duro controlan la eliminación de disolventes y la reticulación de polímeros. Nuestro sistema de infrarrojos acorta el tiempo de secado, manteniendo al mismo tiempo el control de las dimensiones críticas. Además, reduce el consumo energético sin afectar la productividad. La fiabilidad se refleja en el tiempo de funcionamiento continuo: los módulos han funcionado más de 5,000 horas con un desvío en la producción inferior al 5%. Los módulos son intercambiables y se adaptan a las dimensiones estándar de las herramientas, lo que permite que la línea continúe funcionando sin interrupciones.
Qué hay que tener en cuenta
El rendimiento óptimo depende de que el espectro de emisión coincida con la absorción del fotorevestimiento, y de que el montaje del módulo se adapte a las características mecánicas y de enfriamiento de la herramienta. Es necesario realizar pruebas preliminares para ajustar los parámetros PID y verificar la uniformidad en su substrato específico. Una vez ajustados, el comportamiento térmico permanecerá dentro de los límites establecidos.