फैब फ्लोर पर, सॉफ्ट बेक या हार्ड बेक के दौरान तापमान में होने वाले बदलाव, केवल प्रक्रिया में रुकावट ही नहीं पैदा करते; बल्कि ये वास्तविक दोषों का कारण भी बनते हैं। सॉफ्ट बेक के दौरान तापमान कम रहने से रिजिस्ट में घुलनशील पदार्थ फंस जाते हैं। हार्ड बेक के दौरान तापमान अधिक होने से रिजिस्ट में प्रवाह होने लगता है, जिससे पैटर्न धुंधले हो जाते हैं। इसका परिणाम यह होता है कि वेफर बर्बाद हो जाते हैं, पुनर्कार्य की आवश्यकता पड़ती है, एवं ऊर्जा की बर्बादी होती है।
तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?
हमने ऐसा वेफर हीटर बनाया है, जो पूरी प्रक्रिया के दौरान वेफर के तापमान को ±0.1°C के भीतर ही बनाए रखता है। इससे फोटोरिजिस्ट का बेकिंग प्रक्रिया नियमित रहती है, एवं महत्वपूर्ण आयामों पर नियंत्रण भी बना रहता है। तेज़ प्रतिक्रिया वाले तत्वों के कारण तापमान पर अच्छा नियंत्रण रहता है, एवं यह डिज़ाइन क्लीनरूम क्लास 1–100 के मानकों के अनुरूप है। यह 24/7 काम कर सकता है, एवं कम ऊर्जा की आवश्यकता होती है, जिससे तापमान पर नियंत्रण बना रहता है।
स्थापना एवं प्रमाणीकरण
स्थापना के लिए वर्तमान उपकरणों के आकार एवं आवश्यकताओं को ध्यान में रखना आवश्यक है। हम इंटरफेस ड्रॉइंग एवं पिन-टू-पिन संगतता संबंधी दस्तावेज़ भी प्रदान करते हैं, ताकि आप इसे सीधे ही इस्तेमाल कर सकें। अपने विशिष्ट रिजिस्ट एवं बेकिंग शेड्यूल को निर्धारित करने हेतु एक छोटा प्रमाणीकरण चरण आवश्यक है। यह उपकरण मजबूत है, लेकिन तापीय चक्रों के कारण इसका नियमित प्रमाणीकरण आवश्यक है। इसे अन्य महत्वपूर्ण सेंसरों की तरह ही मानें।