ファブの現場では、フォトレジストの処理中に生じる温度変動は、目で見る前に感じ取れるものです。オーバーレイがずれ始めたり、CDのコントロールが乱れたりします。また、ソフトベイクやハードベイクのプロファイルも不安定になります。そうなると、生産効率も同様に低下してしまいます。
内部で重要なのは何か 私たちは、金製の反射器を利用した構造を採用しています。これにより、必要な場所にのみ近赤外線を届け、不要な熱が外部に漏れ出るのを防ぎます。その結果、ウェーハ表面全体での温度が±0.1℃以内に抑えられ、設定値への応答も迅速です。フィラメントやケースは、クリーンルームクラス1～100での使用に適しており、粒子の発生が一切なく、5,000時間以上にわたって安定した出力が得られます。この出力の安定性により、各ロットごとにフォトレジストの温度管理が一致し、リソグラフィーやエッチングの性能も良好に保たれます。
なぜこれがフォトレジスト処理において重要なのか ベイク工程は、その後のすべての工程に影響を与えます。溶剤の除去、接着性、膜の応力などです。このランプを使えば、望むプロファイルがそのまま得られます。つまり、溶剤を除去するためのソフトベイクや、接着性や耐エッチング性を高めるためのハードベイクが可能であり、ホットスポットや端の部分での温度変動も起こりません。その結果、再作業が減り、CDの均一性が向上し、欠陥の発生も予測しやすくなります。また、反射器によって熱がウェーハに集中するため、効率も向上します。信頼性としては、ベイク時の温度変動が少なくなり、計画外の停止時間も減り、サイクルタイムも安定します。
実際の設置方法 設置時には、反射器の形状をランプハウジングに合わせ、光路の位置を正確に調整する必要があります。どちらかが不正確だと、温度の均一性が乱れます。ウェーハやキャリアに合わせて設定値を調整するために、短時間のテストが必要です。このランプは標準的なマウントに装着できますが、金製の反射器は慎重に扱う必要があります。クリーンルーム内の部品と同様に扱い、汚染を避ければ、熱性能も維持されます。