Op een 300mm lijn is één watermerk na het reinigen voldoende om een hele partij te vernietigen. We hebben de Deionized Water Drying Lamp ontwikkeld om deze faalmodus te elimineren, waardoor je gecontroleerde verdamping krijgt zonder filmresidu en zonder deeltjesuitstoot.
Wat technisch belangrijk is
De lamp bevat kortgolvige infraroodemitter in een afgesloten, cleanroom-compatibel huis. Het verwarmt het oppervlak van de wafer direct, zodat je de vertraging die gepaard gaat met convectie omzeilt. De temperatuuruniformiteit over de wafer blijft binnen ±0,1°C, en de herhaalbaarheid van het instelpunt is ±0,2°C over meer dan 10.000 bakcycli.
Een koude start naar een stabiel bakprofiel gebeurt in minder dan 30 seconden, en het werkt met nul deeltjesgeneratie, geverifieerd tegen ISO Klasse 1–100 basislijnen. Het systeem is ontworpen voor 24/7 gebruik, met voorspellende thermische feedback die de outputafwijking onder de 5% houdt over 5.000 uur.
Waarom het werkt in echte processtappen
Bij het drogen na het reinigen en in de fotorestituurbakstappen beschermt de lamp je thermische budget door overshoot te vermijden – overshoot die kan leiden tot TTOP-dunning of verschuivingen in het voetprofiel. Je eindigt met striktere CD-controle en minder herwerkingen bij zowel zachte als harde bakken, terwijl je het energieverbruik vermindert in vergelijking met het gebruik van volledige kamer bakplaten.
Je krijgt een hogere doorvoer met een breder procesvenster, en je stopt met het weggooien van partijen vanwege residuele watermerken.
Waar je voor moet plannen
De lamp vereist een cleanroom-waardig montage en een speciale, gefilterde stroomvoorziening om de thermische stabiliteit te waarborgen. Het is geoptimaliseerd voor 150/200/300mm wafers.
Retrofitkits dekken de meeste trackplatforms, maar als je aansluit op legacy ovens, heb je mogelijk een aangepaste bevestiging nodig om het bestralingveld uit te lijnen. Plan een korte kwalificatieloop om je bakprofiel vast te leggen en de deeltjesprestatie te bevestigen tegen je basislijn.