Na linii 300mm jeden ślad wody po czyszczeniu wystarczy, aby zniszczyć całą partię. Opracowaliśmy lampę do suszenia wodą zdemineralizowaną, aby wyeliminować ten tryb awarii, zapewniając kontrolowane parowanie bez resztek filmu i bez wzrostu ilości cząstek.
Co ma znaczenie z technicznego punktu widzenia
Lampa zawiera emitery podczerwieni krótkofalowego zamknięte w hermetycznej obudowie kompatybilnej z cleanroomem. Podgrzewa bezpośrednio powierzchnię wafla, eliminując opóźnienie wynikające z konwekcji. Jednorodność temperatury na waflu utrzymuje się na poziomie ±0,1°C, a powtarzalność ustawienia temperatury wynosi ±0,2°C w ponad 10 000 cyklach wypału.
Z zimnego startu do stabilnego profilu wypału następuje szybciej niż w 30 sekund, a emisja cząstek jest zerowa, co zostało zweryfikowane na podstawie norm ISO klasy 1–100. System przystosowano do pracy ciągłej 24/7, z predykcyjnym sprzężeniem zwrotnym temperatury, które utrzymuje dryf mocy poniżej 5% przez 5 000 godzin.
Dlaczego działa w rzeczywistych etapach procesu
W suszeniu po czyszczeniu oraz podczas wypału fotooporu lampa chroni budżet termiczny, zapobiegając przeregulowaniu – które mogłoby powodować cienienie TTOP lub przesunięcia profilu stopy. Efektem jest ściślejsza kontrola CD oraz mniej poprawek zarówno w soft bake, jak i hard bake, przy jednoczesnym ograniczeniu zużycia energii w porównaniu do pełnych płyt wypałowych komory.
Uzyskuje się wyższą przepustowość przy szerszym oknie procesu i zaprzestaje się odrzucania partii z powodu pozostałych śladów wody.
Co trzeba zaplanować
Lampa wymaga montażu spełniającego standard cleanroom oraz dedykowanego, filtrowanego zasilania, które utrzyma stabilność termiczną na odpowiednim poziomie. Jest zoptymalizowana pod wafle o średnicach 150/200/300mm.
Zestawy retrofitowe obejmują większość platform track, jednak przy podłączaniu do pieców legacy może być konieczne zastosowanie niestandardowego uchwytu do kalibracji pola napromieniania. Należy zaplanować krótki przebieg kwalifikacyjny w celu ustalenia profilu wypału i potwierdzenia wyników w zakresie cząstek względem obowiązującej bazy odniesienia.