Trong quy trình sản xuất, sự thay đổi nhiệt độ trong giai đoạn nung ẩm hoặc nung cứng không chỉ gây ra sự gián đoạn trong quy trình sản xuất mà còn dẫn đến những khiếm khuyết thực tế trên bề mặt wafer. Nếu nhiệt độ không đạt mức mong muốn trong giai đoạn nung ẩm, hóa chất dung môi sẽ bị mắc kẹt trong lớp phủ bảo vệ wafer. Ngược lại, nếu nhiệt độ quá cao trong giai đoạn nung cứng, lớp phủ bảo vệ sẽ bị biến dạng, khiến các chi tiết trên wafer trở nên mờ nhòe. Hậu quả là wafer bị hỏng, phải được gia công lại, và chi phí năng lượng cũng tăng lên một cách không mong muốn.
Điều quan trọng về mặt kỹ thuật
Chúng tôi đã chế tạo ra bộ sưởi giúp duy trì nhiệt độ ổn định ở mức ±0,1°C trong suốt toàn bộ quy trình sản xuất. Điều này giúp việc nung lớp phủ bảo vệ diễn ra một cách đồng đều, từ đó đảm bảo tính ổn định của các kích thước quan trọng trên wafer. Các linh kiện có khả năng phản ứng nhanh giúp kiểm soát nhiệt độ một cách hiệu quả. Thiết bị này cũng tương thích với môi trường sạch loại 1–100, mà không gây ra sự xuất hiện của các hạt bụi. Thiết bị có thể hoạt động 24/7 mà không gặp sự cố nào, đồng thời việc sử dụng năng lượng cũng được giảm thiểu mà vẫn đảm bảo độ ổn định của nhiệt độ.
Lắp đặt và kiểm tra
Việc lắp đặt chỉ đơn giản là việc điều chỉnh thiết bị sao cho phù hợp với không gian và hệ thống cấp nguồn hiện có. Chúng tôi cung cấp các bản vẽ kết nối và tài liệu hướng dẫn để bạn có thể lắp đặt thiết bị một cách dễ dàng. Bạn nên thực hiện một vài lần kiểm tra ngắn để xác định chính xác thời gian nung phù hợp với loại lớp phủ bảo vệ được sử dụng. Thiết bị này rất bền, nhưng vẫn cần được kiểm calibrat định kỳ – hãy xử lý nó giống như bất kỳ cảm biến nào trong quy trình sản xuất.