In der Fertigungshalle führt eine Temperaturschwankung während des Weichbrennvorgangs oder des Hartbrennvorgangs nicht nur dazu, dass der Produktionsprozess gestoppt werden muss – sie führt auch zu tatsächlichen Defekten. Bei einem zu geringen Temperaturwert beim Weichbrennen bleibt Lösungsmittel im Photoresist zurück. Beim zu hohen Temperaturwert beim Hartbrennen entsteht ein Strömungseffekt, wodurch die Muster verschwimmen. Die Folge sind nutzlose Wafer, zusätzliche Bearbeitungsarbeiten sowie Energieverluste, die man sich nicht leisten kann.
Was technisch wichtig ist: Wir haben einen Waferheizer entwickelt, der eine Konstanz der Temperatur auf dem Wafer auf ±0,1°C über den gesamten Prozessverlauf hinweg gewährleistet. Dadurch ist das Brennen des Photoresists reproduzierbar und die Kontrolle der kritischen Abmessungen bleibt stabil. Schnell reagierende Elemente ermöglichen eine präzise Temperaturregelung. Zudem ist die Konstruktion für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet, ohne dass Partikel entstehen. Der Heizer kann 24/7 betrieben werden, ohne unplanmäßige Ausfälle. Durch den niedrigen Energieverbrauch wird die Temperaturstabilität gewahrt.
Im Bereich der Lithografie ist es wichtig, dass die Parameter des Brennvorgangs von Batch zu Batch konstant bleiben. Dieser Heizer sorgt dafür, dass die Temperaturkonstant bleibt – dadurch trocknet der Photoresist gleichmäßig ab und der Hartbrennvorgang erfolgt ohne Strömungseffekte. Das bedeutet weniger Bearbeitungsarbeiten, höhere Ausbeute sowie zuverlässige Prozesszeiten.
Die Energieeinsparungen resultieren aus einer effizienten Beheizung sowie weniger Energieverlusten während des Aufwärm- und Abkühlvorgangs. Dadurch sinken die Betriebskosten, während die Prozessqualität erhalten bleibt.
Installation und Qualifizierung: Bei der Installation geht es darum, die vorhandenen Anlagen und Infrastrukturen zu berücksichtigen. Wir liefern Unterlagen zur Anbindung an die bestehenden Systeme sowie Dokumentation zur Kompatibilität der Komponenten. So kann die Anlage direkt eingebaut werden.
Planen Sie eine kurze Qualifizierungsphase, um die optimalen Parameter für Ihren jeweiligen Photoresist und den Brennvorgang festzulegen. Die Anlage ist robust, doch es ist dennoch notwendig, sie regelmäßig zu kalibrieren – genauso wie bei jedem anderen Prozesssensor.