Vakuumkammer Infrarotheizung

Wed, 03 Jun 2026 10:08:52 +0800

Auf der 300mm-Linie ist Softbake keine Option – es ist Ihr thermisches Budget, schlicht und einfach. Eine Temperaturschwankung von 2°C über den Wafer kann den CD um Nanometer verschieben, und die Vakuumkammer verschärft jede Drift. Wir haben unseren Infrarot-Heizer für die Vakuumkammer so konstruiert, dass diese Variabilität eliminiert wird, sodass die Temperatur dort wiederholbar bleibt, wo Lithografie und Dünnfilmschichten es erfordern.

Was unter der Haube zählt
Wir betreiben kurzwellige Infrarot-(NIR)-Emitter in einer schnell ansprechenden Quarzhülle, abgestimmt auf schnelle Stabilisierung im Vakuum. Die Wafer-Ebenen-Uniformität liegt bei ±0,1°C über das Prozessfenster, und die Wiederholbarkeit von Charge zu Charge bleibt innerhalb von ±0,5°C. Das Heizkörpergehäuse ist für die Integration in Reinräume der Klasse 1–100 ausgelegt: Materialien mit niedriger Ausgasung und ein layout mit minimaler Partikelbildung, das Kontaminationen vom Wafer fernhält. Die Ausgangsleistung bleibt vom Leerlauf bis zur Volllast stabil, und die Regelung kompensiert Emissionsverschiebungen über strukturierte Wafer ohne Überschwingen.

Kammer on Eco-Friendly Infrared Heating

Vakuumkammer Infrarotheizung