Trocknen on Eco-Friendly Infrared Heating

Energieaudyt für die Trocknung in der Fabrik

Sat, 25 Jul 2026 04:34:41 +0800

Hören Sie auf, zuzulassen, dass Ihre Heizgeräte Ihre Produktivität ruinieren!
Wenn Sie einen Reinraum der Klasse 100 betreiben, kennen Sie dieses Problem nur zu gut. Schon ein winziger Staubkorn oder etwas Abgas kann dazu führen, dass Ihre Produktivität stark sinkt. Das ist frustrierend – besonders, wenn gerade die Geräte, mit denen Sie Ihre Wafer oder Bauteile trocknen, selbst Partikel in den Arbeitsbereich abgeben.

Deshalb haben wir auf hochreinen synthetischen Quarz-IR-Lampen umgestellt.
Das Geheimnis liegt im Quarz.
Wir verwenden geschmolzenen Quarz mit nahezu keinerlei Verunreinigungen. Warum? Weil billige Materialien bei hohen Temperaturen Metallionen oder organische Verbindungen abgeben. Das ist nicht gut. Quarz hingegen oxidiert nicht und blättert auch nicht ab wie solche metallbeschichteten Heizgeräte.

Heizgerät zur Trocknung von MEMS Sensorwafern

Fri, 24 Jul 2026 11:25:49 +0800

Den alten Weg aufgeben: MEMS-Wafer mit Infrarot-Strahlung trocknen
Bei der Herstellung von MEMS-Sensoren ist es wichtig, die Feuchtigkeit von den Wafern zu entfernen. Dabei muss man vorsichtig vorgehen – schließlich soll das Wasser schnell entfernt werden. Doch wenn man bei der Temperatursteuerung Fehler macht, kann das Material beschädigt werden und die gesamte Charge ist ruiniert.

Deshalb verwenden wir Kurzwellen-Infrarotlampen.
Stellen Sie sich einen herkömmlichen Konvektionsofen vor: Er heizt alles auf – die Luft, die Wände, den ganzen Raum – nur um einen einzigen Wafer zu trocknen. Das ist Verschwendung. Infrarotstrahlung hingegen trifft direkt auf die Oberfläche des Wafers – ohne Zwischenmittel.

Großhandels Trocknungsleuchte für Wafer

Tue, 07 Jul 2026 06:16:26 +0800

Die Wafer-Trocknungsleuchte, die wir entwickelt haben, um mit den besten Marken konkurrieren zu können
Wir haben diese Leuchte speziell dafür entwickelt, mit den führenden amerikanischen und japanischen Marken mithalten zu können. Das Ziel war klar: Ihnen dieselbe thermische Leistung sowie Zuverlässigkeit zu bieten – nur ohne den hohen Preis. Das bedeutet, Sie erhalten eine direkte Ersatzlösung, die Ihren Produktionsprozess ununterbrochen am Laufen hält – ohne dass Sie auf Qualität oder Konstanz verzichten müssen.

Die Kraft hinter der Wärme
Hier ist, was sich unter der Haube befindet: Die Leuchte arbeitet bei 400 V und 2500 W. Diese Kombination wurde absichtlich gewählt, um eine starke Wärmestärke zu erzeugen. Dadurch wird die gewünschte Temperatur schnell erreicht, was die Wartezeit reduziert. Die Länge des 300 mm langen Rohres sorgt für eine präzise Ausrichtung der Wärmequelle – genau dort, wo sie benötigt wird. Dadurch wird Energieverschwendung vermieden und benachbarte Komponenten vor Überhitzung geschützt.

Entionisiertes Wasser Trocknungslampe

Mon, 08 Jun 2026 04:54:22 +0800

On einer 300mm-Linie reicht ein Wasserfleck nach der Reinigung aus, um eine gesamte Charge zu vernichten. Wir haben die Deionized Water Drying Lamp entwickelt, um diesen Fehlermodus zu eliminieren, indem sie eine kontrollierte Verdunstung ohne Filmrückstände und ohne Partikelemissionen ermöglicht.
Technisch relevant
Die Lampe verwendet kurzwellige Infrarotstrahler in einem abgedichteten, Reinraum-kompatiblen Gehäuse. Sie erwärmt die Waferoberfläche direkt und umgeht so die Verzögerung, die mit Konvektion einhergeht. Die Temperaturgleichmäßigkeit über den Wafer liegt bei ±0,1°C, und die Wiederholgenauigkeit des Sollwerts beträgt ±0,2°C über mehr als 10.000 Backzyklen.
Der Kaltstart bis zum stabilen Backprofil erfolgt in unter 30 Sekunden, und es wird eine Partikelgenerierung von null nach ISO Klasse 1–100 Baseline bestätigt. Das System ist für den 24/7-Betrieb ausgelegt und verfügt über eine prädiktive thermische Rückkopplung, die den Ausgangsdruckabfall über 5.000 Stunden unter 5 % hält.
Warum es in realen Prozessschritten funktioniert
Beim Trocknen nach der Reinigung und in Photoresist-Backschritten schützt die Lampe Ihr thermisches Budget, indem sie ein Überschießen vermeidet – Überschuss, der zu TTOP-Dünnungen oder Fußprofilverschiebungen führen kann. Dadurch wird die CD-Kontrolle präziser und die Nacharbeit bei Soft- und Hard-Bake reduziert, während gleichzeitig der Energieverbrauch im Vergleich zum Betrieb herkömmlicher Batch-Heizplatten gesenkt wird.
Sie erzielen eine höhere Durchsatzrate mit einem größeren Prozessfenster und vermeiden Chargeverluste durch Wasserfleckenrückstände.
Was Sie bei der Planung beachten müssen
Die Lampe erfordert eine Reinraum-Anbringung und eine eigene, gefilterte Stromversorgung, um die thermische Stabilität sicherzustellen. Sie ist für 150/200/300mm Wafer optimiert.
Nachrüstsätze decken die meisten Track-Plattformen ab, aber bei der Integration in bestehende Öfen kann eine kundenspezifische Halterung nötig sein, um das Bestrahlungsfeld auszurichten. Planen Sie einen kurzen Qualifikationslauf ein, um das Backprofil festzulegen und die Partikelperformance mit Ihrer Vergleichsbasis zu verifizieren.