Pièces de rechange pour le traitement des wafer en ligne

Thu, 02 Jul 2026 08:12:43 +0800

Dans une ligne de production de lithographie, il est impossible d’accepter des écarts de température. Une variation de 2 °C pendant le séchage du photo-résiste provoque une variation de son épaisseur. De plus, les écarts de température pendant le séchage intensif entraînent des contraintes résiduelles dans le film. Ce n’est pas seulement une question théorique : cela se traduit par des wafer endommagés, des spécifications non respectées, et des arrêts de production imprévus. Nous avons conçu nos composants pour faire face à cette réalité : des éléments chauffants qui permettent de maintenir une uniformité thermique de ±0,1 °C sur toute la surface du plateau de traitement, afin que chaque séchage se déroule dans les limites prévues par le processus.

Pièce de rechange élément chauffant Axcelis

Tue, 09 Jun 2026 03:23:49 +0800

Sur le plancher de fabrication, quelques degrés de dérive thermique lors du cuisson du photoresist ne constituent pas une « déviation mineure ». Cela affecte directement l’uniformité des dimensions critiques et commence à envoyer des wafers à la poubelle. Quand un module thermique Axcelis commence à dévier, la ligne s’arrête : les wafers attendent, et le budget thermique est consommé de façons imprévues.

Ce qui compte, techniquement

Les éléments chauffants de rechange Axcelis sont conçus pour correspondre précisément au profil thermique que requiert le traitement du photoresist — étapes de cuisson douce et cuisson dure nécessitant des points de consigne stables et une uniformité serrée. Ces éléments fournissent un rayonnement constant avec un contrôle de la température au niveau du wafer à ±0,1 °C, ce qui garantit un écoulement répétable du résine et un comportement prévisible du bourrelet de bord.

De Rechange on Eco-Friendly Infrared Heating

Pièces de rechange pour le traitement des wafer en ligne

Pièce de rechange élément chauffant Axcelis

Ce qui compte, techniquement