Riscaldatore a infrarossi per camera a vuoto

Wed, 03 Jun 2026 10:08:52 +0800

Sulla linea da 300mm, il soft bake non è opzionale — è il tuo budget termico, semplice e chiaro. Uno scostamento di 2°C sul wafer può spostare il CD di nanometri, e la camera a vuoto peggiora ulteriormente qualsiasi deriva. Abbiamo progettato il nostro riscaldatore IR per camera a vuoto per eliminare questa variabilità, mantenendo la temperatura stabile e ripetibile dove servono litografia e lavori su film sottili.

Cosa conta sotto il cofano
Utilizziamo emettitori a infrarossi a onde corte (NIR) in un involucro di quarzo a risposta rapida, tarato per stabilizzarsi rapidamente in condizioni di vuoto. L’uniformità sul piano wafer si mantiene a ±0,1°C nell’intervallo di processo, mentre la ripetibilità batch-to-batch resta entro ±0,5°C. Il corpo riscaldatore è progettato per l’integrazione in cleanroom Classe 1–100: materiali a basso outgassing e un layout che minimizza le particelle, evitando contaminazioni sul wafer. La potenza erogata rimane stabile da inattivo a pieno carico, e il controllo compensa variazioni di emissività sui wafer patternati senza sovraelongazioni.

Camera on Eco-Friendly Infrared Heating

Riscaldatore a infrarossi per camera a vuoto