Di bilik pengeluaran wafer, perubahan suhu semasa proses pembakaran lembut atau keras bukan sekadar masalah kecil; ia boleh menyebabkan kerosakan sebenar pada wafer tersebut. Jika suhu semasa pembakaran lembut terlalu rendah, bahan pelarut akan tertinggal di dalam lapisan resisten. Sebaliknya, jika suhu semasa pembakaran keras terlalu tinggi, aliran cecair akan berlaku, dan corak yang dihasilkan akan menjadi kabur. Akibatnya, wafer tersebut perlu dibuang, dan proses pembaikan diperlukan. Selain itu, penggunaan tenaga juga akan meningkat, sedangkan kita tidak mahu membuang tenaga secara sia-sia.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami telah mencipta pemanas wafer yang dapat mengekalkan kestabilan suhu pada tahap ±0.1°C sepanjang proses pengeluaran. Dengan cara ini, proses pembakaran resisten dapat dilakukan secara konsisten, dan dimensi penting wafer dapat dikawal dengan baik. Komponen yang digunakan membolehkan kawalan suhu yang tepat, dan reka bentuknya sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100, tanpa menghasilkan zarah-zarah berbahaya. Pemanas ini boleh beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan penggunaan tenaga yang rendah membantu mengurangkan kos operasi, sambil tetap mengekalkan kestabilan suhu.
Pemasangan dan ujian
Pemasangan pemanas ini memerlukan penyesuaian dengan fasiliti dan sistem yang sudah ada. Kami menyediakan gambar rajah antaramuka serta dokumen berkaitan keserasian komponen, agar anda dapat memasangnya dengan mudah. Lakukan ujian singkat untuk memastikan parameter pembakaran resisten berfungsi dengan baik. Walaupun pemanas ini tahan lama, namun masih perlu dilakukan kalibrasi secara berkala – layanlah pemanas ini seperti sensor lain yang digunakan dalam proses pengeluaran.