<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Bulb on Eco-Friendly Infrared Heating</title>
		<link>http://eco-ir-heat.com/ms/tags/bulb/</link>
		<description>Recent content in Bulb on Eco-Friendly Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 05:42:16 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://eco-ir-heat.com/ms/tags/bulb/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah dengan reflektor emas</title>
				<link>http://eco-ir-heat.com/ms/posts/infrared-bulb-with-gold-reflector/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 05:42:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://eco-ir-heat.com/ms/posts/infrared-bulb-with-gold-reflector/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://eco-ir-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah dengan reflektor emas&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pemprosesan tersebut, perubahan suhu semasa proses penggunaan bahan fotoresist merupakan perkara yang dapat dirasai sebelum ia dapat dilihat dengan jelas. Lapisan bahan fotoresist mula berubah bentuk, kawalan ketepatan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;ukuran&lt;/a&gt; cakera menjadi tidak konsisten, dan profil pemanasan yang digunakan juga tidak stabil. Apabila ini berlaku, kualiti hasil pemprosesan juga akan turun.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina mentol IR ini menggunakan reka bentuk reflektor emas, yang memungkinkan haba inframerah disalurkan ke tempat yang diperlukan, sambil mengelakkan haba yang tidak diingini daripada masuk ke dalam sistem. Hasilnya ialah suhu permukaan wafer yang konsisten pada tahap ±0.1°C, dengan respons yang cepat terhadap perubahan suhu. Filamen dan kulit luar mentol ini direka untuk digunakan dalam persekitaran &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;cleanroom&lt;/a&gt; kelas 1–100 – tanpa penghasilan zarah-zarah berbahaya, dan prestasi yang stabil selama lebih dari 5,000 jam. Kestabilan ini memastikan bahawa parameter suhu semasa proses fotoresist tetap konsisten dari satu sesi pemprosesan ke sesi yang lain, sehingga proses litografi dan etching dapat berjalan seperti yang diharapkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
