<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Membakar on Eco-Friendly Infrared Heating</title>
		<link>http://eco-ir-heat.com/ms/tags/membakar/</link>
		<description>Recent content in Membakar on Eco-Friendly Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 04:41:13 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://eco-ir-heat.com/ms/tags/membakar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu untuk memanaskan bahan photoresist</title>
				<link>http://eco-ir-heat.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 04:41:13 +0800</pubDate>
				<guid>http://eco-ir-heat.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://eco-ir-heat.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Lampu untuk memanaskan bahan photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pengeluaran, proses pemanggangan bahan fotoresist bukan sekadar langkah biasa semata-mata. Ia merupakan faktor penting yang membantu memastikan kawalan dimensi komponen elektronik berjalan dengan lancar. Sebarang perubahan suhu &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;sebanyak&lt;/a&gt; 2°C semasa proses pemanggangan boleh menyebabkan keseluruhan proses litografi terganggu. Dengan ini, proses pengeluaran akan menjadi tidak konsisten.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami telah mencipta lampu pemanggangan bahan fotoresist yang mampu mengekalkan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;kestabilan&lt;/a&gt; suhu tersebut, dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan haba &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;inframerah&lt;/a&gt; dekat (NIR) untuk mencapai keseragaman suhu pada skala sub-millimeter di seluruh permukaan wafer. Sistem ini memastikan suhu tetap stabil dalam julat yang ditetapkan. Energi yang digunakan disalurkan dengan cepat tanpa menyebabkan kerosakan pada bahan fotoresist. Suhu juga tetap konsisten di seluruh permukaan wafer, dan masa pemulihan antara setiap sesi pengeluaran juga singkat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
