Pengeringan on Eco-Friendly Infrared Heating

Pemeriksaan tenaga untuk proses pengeringan kilang

Sat, 25 Jul 2026 04:34:41 +0800

Jangan biarkan pemanas yang digunakan merosakkan kualiti produk anda. Jika anda menggunakan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa sukarnya situasinya. Sebuah zarah debu kecil atau pelepasan gas yang sedikit saja sudah cukup untuk merosakkan kualiti produk anda. Ia sangat menjengkelkan. Terutamanya apabila alat yang digunakan untuk mengeringkan wafer atau komponen tersebut sendiri yang menyebabkan zarah-zarah tersebut tersebar di kawasan kerja anda.

Itulah sebabnya kami beralih kepada lampu IR berbahan kuarsa sintetik yang berkualiti tinggi. Rahsianya terletak pada kuarsa itu sendiri. Kami menggunakan kuarsa yang hampir bebas daripada kekotoran. Mengapa? Kerana apabila suhu meningkat, bahan murah akan melepaskan ion logam atau sebatian organik. Ini bukanlah perkara yang baik. Kuarsa pula tidak akan teroksida atau terkelupas seperti pemanas yang diperbuat daripada logam.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 24 Jul 2026 11:25:49 +0800

Meninggalkan cara lama: Mengeringkan wafer MEMS menggunakan sinar inframerah
Ketika membuat sensor MEMS, membuang kelembapan daripada wafer tersebut merupakan proses yang agak rumit. Anda perlu membuang air tersebut dengan cepat, tetapi jika suhu yang digunakan tidak sesuai, ia akan merosakkan bahan tersebut dan merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut.

Itulah sebabnya kita menggunakan lampu inframerah berfrekuensi rendah. Bayangkanlah oven konvensional biasa – ia memanaskan udara, dinding, dan seluruh bilik hanya untuk mengeringkan satu wafer sahaja. Ini merupakan pembaziran tenaga. Sinar inframerah pula berbeza; ia menyinari permukaan wafer secara langsung, tanpa melalui medium lain.

Lampu pengering air terionisasi

Mon, 08 Jun 2026 04:54:22 +0800

Pada saluran 300mm, satu kesan air selepas pembersihan sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan lot. Kami membangunkan Deionized Water Drying Lamp untuk menghapuskan mod kegagalan itu, memberikan anda pengewapan terkawal tanpa sisa filem dan tanpa lonjakan partikel.

Apa yang penting secara teknikal
Lampu ini menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek dalam rumah kedap yang sesuai untuk bilik bersih. Ia memanaskan permukaan wafer secara langsung, jadi anda mengelakkan kelewatan yang berlaku melalui konveksi. Keseragaman suhu merentasi wafer dikekalkan pada ±0.1°C, dan kebolehulangan titik tetapan adalah ±0.2°C dalam lebih 10,000 kitaran pembakaran.
Permulaan sejuk ke profil pembakaran stabil berlaku dalam masa kurang daripada 30 saat, dan operasi dijalankan dengan penghasilan partikel sifar yang disahkan mengikut piawai ISO Class 1–100. Sistem ini dibina untuk tugas 24/7, dengan maklum balas terma ramalan yang mengekalkan pergeseran output di bawah 5% dalam tempoh 5,000 jam.