<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Perindustrian on Eco-Friendly Infrared Heating</title>
		<link>http://eco-ir-heat.com/ms/tags/perindustrian/</link>
		<description>Recent content in Perindustrian on Eco-Friendly Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 23:16:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://eco-ir-heat.com/ms/tags/perindustrian/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Kilang pemanas wafer industri</title>
				<link>http://eco-ir-heat.com/ms/posts/industrial-wafer-heater-factory/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 23:16:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://eco-ir-heat.com/ms/posts/industrial-wafer-heater-factory/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://eco-ir-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Kilang pemanas wafer industri&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang pengeluaran wafer, perubahan suhu bukan sekadar petunjuk yang perlu dipantau – ia merupakan punca utama kehilangan hasil pengeluaran. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran fotoresist boleh menjejaskan ketepatan dimensi wafer. Jika bahan pelarut masih ada pada permukaan wafer, ia akan menyebabkan masalah pada tepi wafer tersebut. Ini bermakna wafer tersebut akan dibuang.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Kami telah membina sistem pemanas wafer industri yang mampu mengelakkan masalah-masalah tersebut, terutamanya di kawasan di mana proses pemanasan dan pembersihan berlaku.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
