Tenaga on Eco-Friendly Infrared Heating

Pemeriksaan tenaga untuk proses pengeringan kilang

Sat, 25 Jul 2026 04:34:41 +0800

Jangan biarkan pemanas yang digunakan merosakkan kualiti produk anda. Jika anda menggunakan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa sukarnya situasinya. Sebuah zarah debu kecil atau pelepasan gas yang sedikit saja sudah cukup untuk merosakkan kualiti produk anda. Ia sangat menjengkelkan. Terutamanya apabila alat yang digunakan untuk mengeringkan wafer atau komponen tersebut sendiri yang menyebabkan zarah-zarah tersebut tersebar di kawasan kerja anda.

Itulah sebabnya kami beralih kepada lampu IR berbahan kuarsa sintetik yang berkualiti tinggi. Rahsianya terletak pada kuarsa itu sendiri. Kami menggunakan kuarsa yang hampir bebas daripada kekotoran. Mengapa? Kerana apabila suhu meningkat, bahan murah akan melepaskan ion logam atau sebatian organik. Ini bukanlah perkara yang baik. Kuarsa pula tidak akan teroksida atau terkelupas seperti pemanas yang diperbuat daripada logam.

Pemanasan menggunakan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Fri, 24 Jul 2026 11:41:12 +0800

Hentikan proses pemanasan udara: Cara yang lebih efisien untuk menguruskan haba pada semikonduktor
Mari kita akui bahawa ketuhar konvensional sebenarnya merupakan kotak besar yang memanaskan setiap molekul udara di dalamnya, hanya untuk membawa wafer ke suhu yang diinginkan. Ini merupakan pembaziran tenaga yang besar.

Kami telah menemukan cara yang lebih baik. Daripada memanaskan seluruh bilik, kami menggunakan lampu inframerah berfrekuensi tinggi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Ini sama seperti beralih daripada penghangat ruangan biasa kepada lampu pemanas—anda tidak perlu lagi memanaskan dinding mesin tersebut, sebaliknya tenaga tersebut digunakan untuk tujuan yang sebenarnya.

Pemanas wafer yang efisien dari segi penggunaan tenaga

Sat, 20 Jun 2026 05:28:55 +0800

Di bilik pengeluaran wafer, perubahan suhu semasa proses pembakaran lembut atau keras bukan sekadar masalah kecil; ia boleh menyebabkan kerosakan sebenar pada wafer tersebut. Jika suhu semasa pembakaran lembut terlalu rendah, bahan pelarut akan tertinggal di dalam lapisan resisten. Sebaliknya, jika suhu semasa pembakaran keras terlalu tinggi, aliran cecair akan berlaku, dan corak yang dihasilkan akan menjadi kabur. Akibatnya, wafer tersebut perlu dibuang, dan proses pembaikan diperlukan. Selain itu, penggunaan tenaga juga akan meningkat, sedangkan kita tidak mahu membuang tenaga secara sia-sia.