Wafer on Eco-Friendly Infrared Heating

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 24 Jul 2026 11:25:49 +0800

Meninggalkan cara lama: Mengeringkan wafer MEMS menggunakan sinar inframerah
Ketika membuat sensor MEMS, membuang kelembapan daripada wafer tersebut merupakan proses yang agak rumit. Anda perlu membuang air tersebut dengan cepat, tetapi jika suhu yang digunakan tidak sesuai, ia akan merosakkan bahan tersebut dan merosakkan keseluruhan kumpulan wafer tersebut.

Itulah sebabnya kita menggunakan lampu inframerah berfrekuensi rendah. Bayangkanlah oven konvensional biasa – ia memanaskan udara, dinding, dan seluruh bilik hanya untuk mengeringkan satu wafer sahaja. Ini merupakan pembaziran tenaga. Sinar inframerah pula berbeza; ia menyinari permukaan wafer secara langsung, tanpa melalui medium lain.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Wed, 22 Jul 2026 04:26:06 +0800

Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan sinar inframerah untuk wafer

Mari kita bicara tentang cara lama untuk mengeringkan wafer. Selama bertahun-tahun, kita bergantung pada ketuhar konveksi yang besar serta bahan kimia berbahaya untuk tujuan tersebut. Kaedah ini memang berkesan, tetapi ia kurang efisien.

Kini, pendekatan “ hijau” atau bebas plumbum bukan sekadar syarat yang perlu dipenuhi oleh pihak berkuasa. Ia juga bertujuan untuk menghilangkan bahan kimia berbahaya seperti VOCs, serta mengurangkan jejak karbon di dalam bilik bersih tersebut. Ini merupakan cara yang lebih baik.

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:17:18 +0800

Melindungi Lampu Pengeringan Wafer daripada Kegagalan

Ketika bekerja dengan proses pengeringan wafer, kita perlu memastikan suhu yang digunakan adalah sempurna. Untuk mencapai itu, kita menggunakan lampu berintensiti tinggi serta alat pantul cahaya yang dirancang khusus untuk tujuan tersebut. Namun, masalahnya ialah apabila tenaga elektrik yang tinggi dimasukkan ke dalam ruang yang kecil, ia boleh menyebabkan kebocoran elektrik. Ini merupakan masalah serius jika tidak ditangani dengan baik.

Mengapa kami menguji setiap lampu

Kami tidak menggunakan kaedah pengambilan sampel secara rawak. Kaedah ini hanya sesuai untuk mereka yang suka mengambil risiko pada peralatan mereka. Sebaliknya, setiap lampu akan diujи untuk ketahanan voltan dan rintangan insulasi sebelum ia keluar dari kilang kami. 100% daripada lampu-lampu tersebut akan diuji.
Mengapa? Kerana dalam sistem pengeringan wafer, sebarang lubang kecil pada lapisan insulasi atau retakan mikroskopik pada bahan kwarsa boleh menyebabkan masalah besar. Ini boleh menyebabkan kerosakan pada papan kawalan, atau lebih teruk lagi, zarah-ion yang merosakkan wafer tersebut.
Kami menguji insulasi tersebut hingga ke tahap maksimum, agar ia tetap berfungsi dengan baik ketika digunakan dalam proses pengeluaran.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sun, 19 Jul 2026 15:21:19 +0800

Menjaga Wafer Anda Daripada Kotoran: Kebenaran Mengenai Kegagalan Lampu
Jika anda menghasilkan wafer dalam kuantiti yang banyak, anda pasti tahu betapa buruknya situasi apabila lampu tersebut gagal berfungsi. Ia bukan sahaja menyebabkan gangguan operasi, tetapi juga menciptakan kekacauan. Apabila lapisan kuarsa lampu pecah, serpihan kaca dan filamen tungsten akan jatuh ke atas wafer tersebut. Dengan itu, seluruh produk yang dihasilkan akan menjadi tidak berguna. Ini merupakan bencana sebenar.

Kami telah meluangkan banyak masa untuk mencari cara untuk mencegah perkara ini daripada berlaku, terutamanya dengan mengubah cara pembuatan lampu tersebut.

Lampu pengeringan wafer secara borong

Tue, 07 Jul 2026 06:16:30 +0800

Lampu Pengeringan Wafer yang Kami Cipta untuk Bersaing dengan Jenama Terkemuka
Kami mencipta lampu pengeringan wafer ini agar dapat bersaing dengan jenama-jenama terkemuka dari Amerika dan Jepun. Tujuannya sangat jelas: memberikan prestasi haba yang setara, serta kebolehpercayaan yang tinggi—tanpa perlu membayar harga yang mahal. Ini bermakna anda mendapat pengganti yang sesuai untuk digunakan secara langsung, tanpa perlu mengorbankan kualiti atau konsistensi operasi.

Kuasa di Sebalik Haba
Lampu ini beroperasi pada voltan 400V dan kuasa 2500W. Kombinasi ini dipilih agar lampu dapat menghasilkan haba yang kuat. Kuasa ini membolehkan suhu yang diinginkan dicapai dengan cepat, sekali gus mengurangkan masa yang diperlukan untuk lampu beroperasi sepenuhnya. Panjang tiub lampu sebanyak 300mm pula memastikan haba disalurkan tepat ke tempat yang diperlukan sahaja. Dengan cara ini, tenaga yang dibazir dapat dikurangkan, dan komponen-komponen di sekitarnya tidak akan terlalu panas.

Alat ganti untuk pemprosesan wafer secara dalam talian

Thu, 02 Jul 2026 08:12:44 +0800

Dalam proses litografi, sel pengolahan cip tidak dapat mengatasi masalah variasi suhu yang berlaku semasa proses pembakaran. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan ketebalan lapisan fotoresist berubah. Selain itu, proses pembakaran yang tidak seragam juga boleh menyebabkan tekanan tertentu terkumpul dalam lapisan tersebut. Ini bukan sekadar teori semata-mata; ia akan menyebabkan cip rosak, spesifikasi tidak terpenuhi, dan masa henti yang tidak dijangka. Kami merancang komponen-komponen yang digunakan untuk pemprosesan cip agar dapat mengekalkan suhu yang seragam pada tahap ±0.1°C, supaya setiap proses pembakaran berjalan dalam julat yang ditetapkan.

Pemanas wafer solder bebas plumbum

Thu, 25 Jun 2026 04:28:50 +0800

Dalam proses pembungkusan, sebarang perubahan suhu yang tidak terkawal boleh merosakkan hasil pengeluaran. Solder tanpa plumbum memerlukan profil suhu yang konsisten, namun kaedah pemanasan konvensional menyebabkan ketidakkonsistenan suhu, dan pembentukan zarah-zarah kecil juga mengurangkan kualiti produk. Proses pemanasan pada tahap wafer perlu dilakukan dengan tepat, bersih, dan boleh dipercayai.

Berikut adalah faktor-faktor teknikal yang penting:

Kami telah mencipta alat pemanas untuk solder tanpa plumbum ini agar mampu memberikan tenaga yang cepat dan seragam. Lampu halogen kuarsa membantu mengawal spektrum cahaya dengan baik, sehingga memungkinkan peningkatan suhu secara cepat. Sistem kawalan berputar pula memastikan suhu di seluruh kawasan wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C. Kawasan panas tersebut sesuai digunakan dalam bilik bersih, dengan reka bentuk yang sesuai untuk operasi di tahap Kelas 1–100. Tidak ada zarah-zarah yang terhasil, dan permukaannya bersih sehingga dapat melindungi wafer daripada kotoran. Langkah-langkah pemprosesan menggunakan bahan fotoresist juga berjalan dalam lingkungan suhu yang dikawal dengan baik, sehingga corak yang dihasilkan tetap stabil. Sistem ini beroperasi 24/7, dengan sistem pemantauan kondisi dan penyelenggaraan proaktif untuk mengelakkan gangguan operasi.

Kilang pemanas wafer industri

Mon, 22 Jun 2026 23:16:07 +0800

Di kilang pengeluaran wafer, perubahan suhu bukan sekadar petunjuk yang perlu dipantau – ia merupakan punca utama kehilangan hasil pengeluaran. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pembakaran fotoresist boleh menjejaskan ketepatan dimensi wafer. Jika bahan pelarut masih ada pada permukaan wafer, ia akan menyebabkan masalah pada tepi wafer tersebut. Ini bermakna wafer tersebut akan dibuang.

Kami telah membina sistem pemanas wafer industri yang mampu mengelakkan masalah-masalah tersebut, terutamanya di kawasan di mana proses pemanasan dan pembersihan berlaku.

Pemanas wafer yang efisien dari segi penggunaan tenaga

Sat, 20 Jun 2026 05:28:55 +0800

Di bilik pengeluaran wafer, perubahan suhu semasa proses pembakaran lembut atau keras bukan sekadar masalah kecil; ia boleh menyebabkan kerosakan sebenar pada wafer tersebut. Jika suhu semasa pembakaran lembut terlalu rendah, bahan pelarut akan tertinggal di dalam lapisan resisten. Sebaliknya, jika suhu semasa pembakaran keras terlalu tinggi, aliran cecair akan berlaku, dan corak yang dihasilkan akan menjadi kabur. Akibatnya, wafer tersebut perlu dibuang, dan proses pembaikan diperlukan. Selain itu, penggunaan tenaga juga akan meningkat, sedangkan kita tidak mahu membuang tenaga secara sia-sia.