Drogen on Eco-Friendly Infrared Heating

Energieaudit voor fab drogen

Sat, 25 Jul 2026 04:34:41 +0800

Stop met het toestaan dat je verwarmingselementen je productiecapaciteit beperken.
Als je een Class 100-stroomvrije ruimte gebruikt, weet je vast al hoe frustrerend dit kan zijn. Eén klein stofdeeltje of een beetje uitstoot van gassen kan al zorgen voor een grote daling in de productiecapaciteit. Het is erg vervelend. Vooral omdat de gereedschappen die je gebruikt om de wafer of andere onderdelen te drogen, juist zelf deel uitmaken van de oorzaak van het probleem.

Daarom hebben we gekozen voor IR-lampen gemaakt van synthetisch kwarts met een hoge zuiverheid.
Het geheim zit in het kwarts.
We gebruiken gefuseerd kwarts met bijna geen onzuiverheden. Waarom? Omdat goedkope materialen bij hoge temperaturen metalenionen of organische verbindingen uitzenden. Dat is niet goed. Kwarts oxideert of lost zich niet op, in tegenstelling tot de metalen verwarmingselementen. Bovendien geeft kwarts stralingswarmte af; deze warmte bereikt het te drogen oppervlak rechtstreeks. Hierdoor wordt de luchtomgeving niet verstoord, zodat de laminerale luchtvloeiing op zijn plek blijft.

MEMS sensorwafer verdooier

Fri, 24 Jul 2026 11:25:49 +0800

Het oude systeem achter zich laten: het drogen van MEMS-chips met infraroodstraling
Bij het maken van MEMS-sensoren is het belangrijk om de vochtigheid van de chips te verwijderen. Je wilt dat het water zo snel mogelijk verdwijnt – maar als je de temperatuur verkeerd instelt, kan dit schade toebrengen aan het materiaal en daardoor ook aan de hele batch chips.

Daarom gebruiken we koolstofdioxide-infraroodlampen. Stel je een gewone convectieoven voor: deze verwarmt alles – de lucht, de muren, de hele ruimte – alleen maar om één chip te drogen. Dat is zonde van energie. Infraroodstraling werkt anders: deze bereikt rechtstreeks het oppervlak van de chip. Er is geen tussenlaag nodig.

Gedeïoniseerd water drooglamp

Mon, 08 Jun 2026 04:54:22 +0800

Op een 300mm lijn is één watermerk na het reinigen voldoende om een hele partij te vernietigen. We hebben de Deionized Water Drying Lamp ontwikkeld om deze faalmodus te elimineren, waardoor je gecontroleerde verdamping krijgt zonder filmresidu en zonder deeltjesuitstoot.
Wat technisch belangrijk is
De lamp bevat kortgolvige infraroodemitter in een afgesloten, cleanroom-compatibel huis. Het verwarmt het oppervlak van de wafer direct, zodat je de vertraging die gepaard gaat met convectie omzeilt. De temperatuuruniformiteit over de wafer blijft binnen ±0,1°C, en de herhaalbaarheid van het instelpunt is ±0,2°C over meer dan 10.000 bakcycli.
Een koude start naar een stabiel bakprofiel gebeurt in minder dan 30 seconden, en het werkt met nul deeltjesgeneratie, geverifieerd tegen ISO Klasse 1–100 basislijnen. Het systeem is ontworpen voor 24/7 gebruik, met voorspellende thermische feedback die de outputafwijking onder de 5% houdt over 5.000 uur.
Waarom het werkt in echte processtappen
Bij het drogen na het reinigen en in de fotorestituurbakstappen beschermt de lamp je thermische budget door overshoot te vermijden – overshoot die kan leiden tot TTOP-dunning of verschuivingen in het voetprofiel. Je eindigt met striktere CD-controle en minder herwerkingen bij zowel zachte als harde bakken, terwijl je het energieverbruik vermindert in vergelijking met het gebruik van volledige kamer bakplaten.
Je krijgt een hogere doorvoer met een breder procesvenster, en je stopt met het weggooien van partijen vanwege residuele watermerken.
Waar je voor moet plannen
De lamp vereist een cleanroom-waardig montage en een speciale, gefilterde stroomvoorziening om de thermische stabiliteit te waarborgen. Het is geoptimaliseerd voor 150/200/300mm wafers.
Retrofitkits dekken de meeste trackplatforms, maar als je aansluit op legacy ovens, heb je mogelijk een aangepaste bevestiging nodig om het bestralingveld uit te lijnen. Plan een korte kwalificatieloop om je bakprofiel vast te leggen en de deeltjesprestatie te bevestigen tegen je basislijn.