Online reserveonderdelen voor waferverwerking

Thu, 02 Jul 2026 08:12:44 +0800

In een lithografiecel kan men geen afwijkingen in de temperatuur toestaan. Een verschil van 2°C tijdens het verhitten van de fotoresist zorgt voor een oneffenheid in de dikte van deze laag. Bovendien zorgt ongelijkmatig verhitten voor restspanningen die zich in de film vastzetten. Dat is geen theorie – het resulteert in schade aan de wafers, niet-nagekomen specificaties en onverwachte stilstandstijden. We hebben onze onderdelen speciaal ontworpen om dit soort problemen te voorkomen: verwarmingselementen die een temperatuurconstantie van ±0,1°C mogelijk maken, zodat alle verwerkingsstappen binnen de gewenste grenzen blijven.

Axcelis verwarmingselement reserveonderdeel

Tue, 09 Jun 2026 03:23:49 +0800

Out on the fab floor, een temperatuurafwijking van enkele graden tijdens het bakken van photoresist is geen ‘kleine afwijking’. Het raakt direct de uniformiteit van de Critical Dimension en zorgt ervoor dat wafers worden afgekeurd. Wanneer een Axcelis thermisch module zijn doel niet haalt, stokt de lijn—wafers blijven stil liggen en het thermisch budget wordt op onverwachte wijze verbruikt.

Wat technisch van belang is

Axcelis reserve-heatelementen zijn ontworpen om te voldoen aan het thermische profiel dat photoresist verwerking daadwerkelijk vereist—zachte en harde bake-stappen die stabiele setpoints en strakke uniformiteit vereisen. De elementen leveren consistente stralingsoutput met temperatuurcontrole op wafer-niveau tot ±0,1°C, wat zorgt voor reproduceerbare resiststroming en voorspelbaar edge bead-gedrag.

Reserve on Eco-Friendly Infrared Heating

Online reserveonderdelen voor waferverwerking

Axcelis verwarmingselement reserveonderdeel

Wat technisch van belang is