Em uma linha de 300mm, uma marca de água após a limpeza é suficiente para inutilizar um lote inteiro. Desenvolvemos a Lâmpada de Secagem com Água Deionizada para eliminar esse modo de falha, proporcionando evaporação controlada sem resíduo de filme nem variações de partículas.
O que importa, tecnicamente
A lâmpada integra emissores infravermelhos de onda curta em um invólucro selado compatível com sala limpa. Ela aquece diretamente a superfície da pastilha, eliminando o atraso típico da convecção. A uniformidade de temperatura na pastilha é mantida em ±0,1°C, e a repetibilidade do ponto de ajuste é de ±0,2°C em mais de 10.000 ciclos de aquecimento.
A transição do estado frio para um perfil de aquecimento estável ocorre em menos de 30 segundos e o sistema opera sem geração de partículas, comprovada conforme as referências ISO Classe 1–100. O equipamento foi projetado para operação contínua 24/7, com feedback térmico preditivo que mantém a deriva de saída abaixo de 5% durante 5.000 horas.
Por que funciona em etapas reais do processo
Na secagem pós-limpeza e nas etapas de pré e pós-cozimento do fotossensível, a lâmpada protege seu orçamento térmico evitando ultrapassagens de temperatura — ultrapassagens que podem causar afinamento do TTOP ou mudanças no perfil dos pés. Isso resulta em controle mais rigoroso do CD e menos retrabalhos nas fases de soft bake e hard bake, além de reduzir o consumo energético em comparação com o uso de placas de cozimento em câmara cheia.
Você obtém maior rendimento com uma janela de processo mais ampla e evita perdas de lotes provocadas por marcas residuais de água.
O que é preciso considerar no planejamento
A lâmpada requer montagem em nível de sala limpa e alimentação elétrica dedicada com filtragem para garantir a estabilidade térmica necessária. Está otimizada para wafers de 150/200/300mm.
Kits de retrofit cobrem a maioria das plataformas de track, mas para integração em fornos antigos pode ser necessário um suporte customizado para alinhar o campo de irradiação. Recomenda-se um curto período de qualificação para definir o perfil de cozimento e confirmar o desempenho de partículas em relação à linha de base.