Pare de desperdiçar energia na fabricação de wafers!
Sejamos sinceros: desperdiçar energia no processo de fabricação de wafers é, na verdade, um desperdício de dinheiro. Quando se utilizam lâmpadas infravermelhas de alta potência para assar ou curar os wafers, uma grande quantidade dessa energia simplesmente se perde. Ela pode ser desperdiçada como calor ou refletida para longe da superfície do wafer. Isso é frustrante.
Descobrimos uma maneira de resolver esse problema. O segredo está em um revestimento de ouro de alta pureza no refletor.
Por que ouro?
Os refletores de alumínio funcionam bem, mas têm dificuldades com o espectro infravermelho. O ouro é diferente: ele é extremamente eficaz em refletir radiações infravermelhas de onda longa.
Pense nisso assim: em vez dos fótons voltarem para o interior da lâmpada e aquecerem coisas que não deveriam ser aquecidas, o ouro direciona esses fótons diretamente para o wafer. Assim, você obtém uma aplicação de energia mais concentrada. Você consegue obter o calor necessário no substrato sem precisar aumentar a voltagem ao máximo.
Atenção ao calor
O problema é que, quando se concentra tanta energia em um único ponto, as temperaturas sobem rapidamente. Não se pode ignorar os limites do hardware. É preciso garantir que os sistemas de resfriamento sejam eficazes. Se os trocadores de calor não conseguirem manter a temperatura controlada, isso causará problemas nos suportes de montagem ou nos filamentos. É uma ferramenta poderosa, então é preciso tratá-la com cuidado.
Como implementar isso
Desenvolvemos esses dispositivos de maneira simples. Eles são substitutos ideais para os arrays infravermelhos padrão. Não há necessidade de reconstruir todo o sistema.
O objetivo é simples: reduzir o consumo de energia por wafer, sem diminuir o tempo de processamento. Você verá diferenças nas suas contas de energia rapidamente. Sim, o revestimento de ouro custa mais a principio – não há como evitar isso. Mas, para fábricas que produzem grandes quantidades de wafers, as economias em energia e o melhor controle da uniformidade térmica compensam esse custo.
Trata-se de garantir que cada watt gasto seja efetivamente utilizado antes de chegar ao wafer.