Đèn sấy bằng nước đã được khử ion

Mon, 08 Jun 2026 04:54:22 +0800

Trên dây chuyền 300mm, chỉ một vết nước sau khi làm sạch là đủ để làm hỏng toàn bộ lô. Chúng tôi đã phát triển Đèn Sấy Nước Khử Ion để loại bỏ chế độ hỏng đó, cho phép bay hơi có kiểm soát mà không để lại màng dư và không gây lệch hạt.

Điều quan trọng về mặt kỹ thuật
Đèn tích hợp các phát xạ hồng ngoại sóng ngắn vào trong một vỏ kín, tương thích với phòng sạch. Nó làm nóng trực tiếp bề mặt wafer, do đó loại bỏ độ trễ thường thấy khi làm nóng bằng đối lưu. Độ đồng đều nhiệt độ trên wafer duy trì trong phạm vi ±0.1°C, và độ lặp lại điểm đặt đạt ±0.2°C qua hơn 10.000 chu trình nướng.
Khởi động lạnh đến hồ sơ nướng ổn định trong vòng chưa đầy 30 giây, và chạy mà không phát sinh hạt, đã được xác minh theo chuẩn ISO Class 1–100. Hệ thống được thiết kế cho hoạt động 24/7, với phản hồi nhiệt dự báo giúp duy trì sai số công suất dưới 5% trong 5.000 giờ vận hành.

Nước on Eco-Friendly Infrared Heating

Đèn sấy bằng nước đã được khử ion