Sấy Khô on Eco-Friendly Infrared Heating

Kiểm toán năng lượng cho quy trình sấy trong nhà máy

Sat, 25 Jul 2026 04:34:41 +0800

Hãy ngừng để những chiếc lò sưởi này phá hủy năng suất sản xuất của bạn đi! Nếu bạn đang vận hành phòng sạch loại Class 100, chắc hẳn bạn đã hiểu rõ mức độ khó khăn mà nó mang lại. Chỉ cần một hạt bụi nhỏ hay một lượng khí thải nhỏ thôi cũng có thể làm giảm năng suất sản xuất của bạn. Điều này thật đáng thất vọng. Đặc biệt là khi chính những công cụ dùng để sấy khô các tấm wafer hoặc linh kiện lại là nguyên nhân gây ra việc phát sinh các hạt bụi trong môi trường làm việc.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Fri, 24 Jul 2026 11:25:49 +0800

Bỏ qua phương pháp cũ: Sấy khô các tấm wafer MEMS bằng ánh sáng hồng ngoại
Khi chế tạo các cảm biến MEMS, việc loại bỏ hơi ẩm trên các tấm wafer là một thách thức lớn. Bạn cần loại bỏ hơi nước càng nhanh càng tốt – nhưng nếu kiểm soát nhiệt độ không tốt, vật liệu sẽ bị tổn thương và toàn bộ sản phẩm sẽ bị hỏng.

Đó là lý do tại sao chúng ta sử dụng các bóng đèn hồng ngoại tần số cao. Hãy tưởng tượng về lò nướng thông thường: nó làm nóng toàn bộ môi trường xung quanh – không khí, các bức tường, toàn bộ căn phòng – chỉ để sấy khô một tấm wafer duy nhất. Đó là sự lãng phí năng lượng. Ngược lại, ánh sáng hồng ngoại tác động trực tiếp lên bề mặt tấm wafer, không cần qua bất kỳ trung gian nào.

Đèn sấy wafer bán buôn

Tue, 07 Jul 2026 06:16:27 +0800

Chiếc đèn sấy wafer mà chúng tôi tạo ra để cạnh tranh với các thương hiệu hàng đầu
Chúng tôi chế tạo chiếc đèn sấy wafer này nhằm mang lại hiệu suất tương đương với các thương hiệu nổi tiếng của Mỹ và Nhật Bản. Mục tiêu rất rõ ràng: mang lại hiệu suất làm nóng tốt và độ tin cậy cao – nhưng với giá cả hợp lý hơn. Điều đó có nghĩa là bạn có thể sử dụng chiếc đèn này thay thế cho các loại đèn khác mà không lo về chất lượng hay độ ổn định của sản phẩm.

Đèn sấy bằng nước đã được khử ion

Mon, 08 Jun 2026 04:54:22 +0800

Trên dây chuyền 300mm, chỉ một vết nước sau khi làm sạch là đủ để làm hỏng toàn bộ lô. Chúng tôi đã phát triển Đèn Sấy Nước Khử Ion để loại bỏ chế độ hỏng đó, cho phép bay hơi có kiểm soát mà không để lại màng dư và không gây lệch hạt.

Điều quan trọng về mặt kỹ thuật
Đèn tích hợp các phát xạ hồng ngoại sóng ngắn vào trong một vỏ kín, tương thích với phòng sạch. Nó làm nóng trực tiếp bề mặt wafer, do đó loại bỏ độ trễ thường thấy khi làm nóng bằng đối lưu. Độ đồng đều nhiệt độ trên wafer duy trì trong phạm vi ±0.1°C, và độ lặp lại điểm đặt đạt ±0.2°C qua hơn 10.000 chu trình nướng.
Khởi động lạnh đến hồ sơ nướng ổn định trong vòng chưa đầy 30 giây, và chạy mà không phát sinh hạt, đã được xác minh theo chuẩn ISO Class 1–100. Hệ thống được thiết kế cho hoạt động 24/7, với phản hồi nhiệt dự báo giúp duy trì sai số công suất dưới 5% trong 5.000 giờ vận hành.