আর ওভেনের জন্য অপেক্ষা করবেন না: IR কিউরিং কেন কার্যকর?
যদি আপনি এখনও গরম বায়ু ব্যবহার করেন, তাহলে আপনি আসলে অপেক্ষার খেলা খেলছেন। আপনি বায়ুকে উত্তপ্ত করেন, তারপর সেই উত্তপ্ত বায়ুটি ওয়েফারকে উত্তপ্ত করার জন্য অপেক্ষা করেন। এটা খুবই ধীর প্রক্রিয়া। সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদনে এই ধীরগতি অত্যন্ত বড় সমস্যা।
আমরা ঐ মধ্যবর্তী প্রক্রিয়াটি দূর করার জন্য সনদপ্রাপ্ত ইনফ্রারেড (IR) ল্যাম্প ব্যবহার করি। কনভেকশনের পরিবর্তে আমরা রেডিয়েশন ব্যবহার করি।
ঠিক যেখানে দরকার, সেখানেই তাপ পৌঁছায়
IR ল্যাম্পগুলো ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক তরঙ্গ নির্গত করে; এই তরঙ্গগুলো সরাসরি সাবস্ট্রেটে আঘাত করে। আপনাকে পুরো চেম্বারটি নির্দিষ্ট তাপমাত্রায় পৌঁছানোর জন্য অপেক্ষা করতে হয় না। শক্তিটি তৎক্ষণাৎ সাবস্ট্রেটে পৌঁছায়।
ফলে, যে সময়টুকু আগে মিনিটে কেটে যেত, এখন সেটা কয়েক সেকেন্ডেই শেষ হয়। IR সিস্টেম ব্যবহার করলে ঐ ধীরগতি দূর হয়ে যায়।
আরও বেশি ওয়েফার, কম ঝামেলা
গরম বায়ু ব্যবহার করলে যন্ত্রগুলো খুবই বড় হয়ে যায়। ব্লোয়ার ও হিট এক্সচেঞ্জারগুলো রাখার জন্য বিশাল জায়গা দরকার হয়।
কিন্তু IR ল্যাম্পগুলো খুবই ছোট। এগুলোকে সরাসরি টুললাইনে রাখা যায়। আর, আপনি শুধুমাত্র যে অংশটি উত্তপ্ত করতে চান, সেটিই উত্তপ্ত হয়; পুরো ঘরটি নয়।
এটা খুবই সরল গণিত: দ্রুত কিউরিং প্রক্রিয়া মানে প্রতি ঘন্টায় আরও বেশি ওয়েফার প্রস্তুত হয়। কম সময়ে প্রস্তুত হওয়ার ফলে প্রতি ইউনিটের খরচও কমে যায়।
কিন্তু একটি সমস্যা আছে…
IR কোনো “জাদুর ছড়ি” নয়। যেহেতু তাপ খুব দ্রুত পৌঁছায়, তাই যদি PID কন্ট্রোলারগুলো ঠিকমতো সেট না করা হয়, তাহলে লক্ষ্য তাপমাত্রা অতিক্রম হয়ে যাওয়ার সম্ভাবনা রয়েছে।
আর, তাপ নিয়ন্ত্রণেও সাবধান থাকতে হবে। যদি চেম্বারটি ঠিকমতো ভেন্টেট না হয়, তাহলে ইলেকট্রনিক্স যন্ত্রগুলো নষ্ট হয়ে যেতে পারে। তাই ঠিকমতো কুলিং ফ্যান ব্যবহার করা জরুরি; নইলে ল্যাম্পগুলো দ্রুত নষ্ট হয়ে যাবে।
আমার পরামর্শ? দ্রুত-প্রতিক্রিয়াশীল থার্মোকাপল ব্যবহার করুন, আর ল্যাম্প ও ওয়েফারের মধ্যে দূরত্ব কম রাখুন। এভাবেই রেডিয়েশনের সর্বোত্তম ব্যবহার করা যায়।