फैब फ्लोर पर, तापमान में होने वाले परिवर्तन केवल एक मापदंड ही नहीं हैं… बल्कि ये उत्पादन हानि का सीधा कारण भी हैं। फोटोरेजिस्ट को नरम करने की प्रक्रिया के दौरान 0.5°C का परिवर्तन भी उत्पादन प्रक्रिया में गड़बड़ी पैदा कर सकता है। यदि फिल्म में विलायक बच जाए, तो इससे उत्पाद में दोष पैदा हो जाते हैं… ऐसी स्थिति में उत्पाद बर्बाद हो जाता है।
हमने अपनी औद्योगिक वेफर हीटर प्रणाली को ऐसे ही डिज़ाइन किया है… ताकि ऐसी समस्याओं को रोका जा सके… खासकर उन स्थानों पर, जहाँ तापमान नियंत्रण आवश्यक है।
वास्तव में क्या महत्वपूर्ण है?
हम शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड एमिटरों का उपयोग करते हैं… ताकि ऊष्मा तुरंत, सीधे एवं नियमित रूप से वेफर में पहुँच सके। 60°C पर नरम बेकिंग, 120°C पर हार्ड बेकिंग… ऐसी परिस्थितियों में भी वेफर का तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है।
क्लोज्ड-लूप, मल्टी-ज़ोन नियंत्रण के कारण ही ऐसा संभव है… इससे एमिटरों की उम्र एवं वोल्टेज में होने वाले परिवर्तनों का प्रभाव कम हो जाता है। यह प्लेटफॉर्म क्लीनरूम-योग्य है… तापीय प्रक्रियाओं के दौरान कोई कण भी नहीं बनता।
लिथोग्राफी एवं सफाई प्रक्रियाओं में इसका क्या उपयोग है?
लिथोग्राफी में, नियमित बेकिंग से फोटोरेजिस्ट फिल्म स्थिर रहती है… इससे CD कंट्रोल बेहतर होता है, एवं पुनः कार्य करने की आवश्यकता कम हो जाती है।
वेफर को सुखाने हेतु भी यही तापीय प्लेटफॉर्म उपयोगी है… इससे सतह पर कोई दोष नहीं पैदा होता… ऐसी स्थिति में विद्युत संबंधी समस्याएँ भी नहीं होतीं।
तेज़ गति से तापमान नियंत्रण होने से प्रक्रिया का समय कम हो जाता है… ऊर्जा की बचत भी होती है। यह प्लेटफॉर्म 24/7 कार्य करने हेतु डिज़ाइन किया गया है… इससे रखरखाव की आवश्यकता भी कम हो जाती है।
वे विवरण जो आपको समस्याओं से बचाते हैं…
SWIR तकनीक के कारण, पॉलिमर-संवेदनशील सामग्रियों पर तापमान नियंत्रण आवश्यक है। हम फिल्म स्टैकों के अनुसार विशेष रेसिपी उपलब्ध कराते हैं… हमारी टीम आपके साथ मिलकर एक्सपोज़र समय एवं तापमान को नियंत्रित करती है।
इसके लिए 240V की विशेष विद्युत आपूर्ति आवश्यक है… साथ ही क्लीनरूम के दबाव को नियंत्रित करने हेतु विशेष व्यवस्था भी आवश्यक है। यदि उपकरण को आपकी प्रक्रिया के अनुसार ही उपयोग में लाया जाए, तो तापमान संबंधी समस्याएँ नहीं रहेंगी… बल्कि यह एक नियंत्रणीय संसाधन ही बन जाएगा।