Menghentikan kebocoran panas pada kemasan sensor cerdas
Jika Anda pernah memanaskan wafer untuk kemasan sensor cerdas, tentu Anda tahu betapa menyebalkannya hal tersebut. Energi yang dikirim ke sistem tersebut seolah-olah hilang begitu saja. Reflektor standar sering kali tidak efektif dalam hal ini; mereka menyebabkan kebocoran energi atau menciptakan area dingin yang mengganggu kualitas hasilnya.
Kami telah menemukan cara yang lebih baik. Alih-alih berusaha melawan peralatan tersebut, kami menggunakan lapisan emas murni untuk mengarahkan radiasi inframerah tepat ke tempat yang diperlukan, yaitu langsung ke permukaan wafer.
Mengapa emas?
Bukan karena penampilannya yang mewah, tetapi karena sifat fisiknya. Dalam spektrum inframerah, emas merupakan bahan dengan tingkat reflektivitas tertinggi. Bandingkan dengan aluminium atau stainless steel; bahan-bahan ini justru menyerap sebagian besar panas yang ada. Emas tidak melakukan hal tersebut; ia memantulkan hampir seluruh energi kembali ke arah target. Hal ini menciptakan zona panas yang terfokus. Yang terbaik adalah Anda bisa mendapatkan aliran panas yang lebih kuat tanpa perlu meningkatkan daya yang digunakan oleh lampu.
Menjaga panas di tempat yang tepat
Kami merancang lapisan ini agar energi tidak tersebar. Jika radiasi masuk ke dalam kotak mesin, maka ruang kerja akan menjadi panas dan tidak nyaman. Dengan meningkatkan tingkat reflektivitas di sumbernya, kita dapat menurunkan suhu lingkungan dan mengarahkan energi ke silikon.
Namun, ada tantangan tersendiri: semakin besar daya yang digunakan, semakin sulit pula mengontrolnya. Karena panasnya sangat terfokus, Anda harus berhati-hati. Jika wafernya tidak sepenuhnya rata atau jarak antara lampu sedikit tidak tepat, maka akan muncul area panas yang berlebihan. Anda perlu memastikan posisi Z-axis benar. Jika jaraknya terlalu sempit, permukaan wafer akan terbakar. Jika terlalu lebar, maka fokus panasnya akan hilang lagi.
Apa manfaatnya bagi proses produksi?
Dalam dunia nyata, hal ini berarti waktu yang dibutuhkan untuk memanaskan wafer menjadi lebih cepat. Anda tidak perlu menunggu sampai substrat mencapai suhu yang diinginkan. Ini merupakan cara yang efektif untuk memproses lebih banyak wafer tanpa perlu mengganti sistem pasokan listrik atau merombak seluruh kabel listrik. Cara ini benar-benar efektif.