리소그래피 공정에서는, 포토레지스트를 가열할 때 약 반도의 온도 변동만으로도 정밀하게 제어되던 선의 굵기가 비정상적으로 변할 수 있습니다. 이러한 상황에서는 일정하지 않은 설정값으로는 생산 효율을 유지할 수 없습니다. 그래서 우리는 공정 중에 온도가 일정하게 유지되도록 하는 적외선 가열 모듈을 개발했습니다.
기술적으로 중요한 점들 우리는 빠르게 반응하는 필라멘트를 사용한 단파 적외선 방출기를 사용하여, 빠른 온도 상승과 안정적인 상태를 보장합니다. 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C 수준을 유지하며, 여러 번의 공정 반복 시에도 그 차이는 ±0.2°C에 불과합니다. 클로즈드-루프 온도 제어 시스템과 PID 제어 기능을 통해, 문이 열릴 때도 온도가 변하지 않습니다. 이 모듈들은 클래스 1–100급의 청정실 환경에서 작동하며, 석영/세라믹 재질로 만들어져 입자가 전혀 발생하지 않습니다. 따라서 오염도나 가스 배출도 없습니다.
포토레지스트 처리에서 이 방식이 효과적인 이유 소프트 베이크와 하드 베이크 과정에서는 용매 제거 및 폴리머의 상호결합이 이루어집니다. 적외선 가열 방식을 사용하면 가열 시간을 줄일 수 있으면서도 핵심 치수를 정확하게 제어할 수 있습니다. 또한, 빠른 반응 속도 덕분에 불필요한 열이 발생하지 않아 에너지 소비를 줄일 수 있습니다.
신뢰성은 가동 시간으로 나타납니다. 이 모듈들은 5,000시간 이상 작동해도 성능 저하가 5% 미만입니다. 또한, 표준 공정 장비와 호환되도록 설계되어 있어 공정이 계속해서 진행될 수 있습니다.
주의해야 할 사항들 최적의 성능을 얻으려면, 방출기의 스펙트럼을 포토레지스트의 흡수 특성에 맞추고, 장착 방식도 공정 장비의 기계적/냉각 구조에 맞게 조정해야 합니다. PID 제어 시스템을 조정하기 위해 소량의 원료를 사용해 테스트를 진행해야 하며, 실제 웨이퍼에서의 온도 균일성도 확인해야 합니다. 일단 설정이 완료되면, 온도가 지속적으로 일정하게 유지됩니다.