Menghentikan kebocoran haba dalam pembungkusan sensor pintar
Jika anda pernah menghabiskan masa untuk memanaskan wafer yang digunakan dalam pembungkusan sensor pintar, pasti anda tahu betapa menyakitkannya pengalaman tersebut. Anda memasukkan tenaga ke dalam sistem tersebut, tetapi nampaknya separuh daripada tenaga tersebut hilang begitu sahaja. Reflektor biasa sering menjadi penyebab masalah ini – ia menyebabkan tenaga terbuang sia-sia atau menciptakan kawasan sejuk yang mengganggu konsistensi proses pemprosesan.
Kami telah mencari cara yang lebih baik. Daripada berjuang melawan peralatan tersebut, kami menggunakan lapisan emas bertekstur tinggi untuk mengarahkan radiasi inframerah ke tempat yang sepatutnya, iaitu terus ke atas wafer.
Mengapa emas?
Bukan kerana ia kelihatan mewah, tetapi kerana sifat fiziknya. Dalam spektrum inframerah, emas merupakan bahan yang paling efektif untuk memantulkan cahaya. Berbeza dengan aluminium atau keluli tahan karat yang menyerap sebahagian besar haba tersebut. Emas pula memantulkan hampir semua tenaga kembali ke arah sasaran. Ini menghasilkan zon haba yang tertumpu. Yang terbaiknya ialah anda boleh mendapatkan aliran haba yang lebih kuat tanpa perlu meningkatkan kuasa lampu tersebut.
Mengawal haba di tempat yang sepatutnya
Kami merancang lapisan ini agar tenaga tidak tersebar. Apabila radiasi masuk ke dalam badan mesin, ia akan membuat kawasan kerja menjadi panas dan tidak selesa. Dengan meningkatkan kecekapan pantulan cahaya di sumbernya, kita dapat menurunkan suhu persekitaran dan memastikan tenaga sampai ke silikon.
Namun, ada sedikit cabaran yang perlu dihadapi. Kerana haba sangat tertumpu, anda perlu berhati-hati. Jika wafer tidak berada pada kedudukan yang tepat atau jarak antara lampu tidak sesuai, akan timbul kawasan panas. Anda perlu memastikan ketinggian paksi Z tepat. Jika jaraknya terlalu sempit, permukaan wafer akan terbakar. Jika terlalu lebar, anda akan kembali ke titik permulaan, dan fokus haba akan hilang.
Apa manfaatnya bagi proses pengeluaran?
Dalam dunia nyata, ini bermakna masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer akan berkurangan dengan ketara. Anda tidak perlu menunggu lama sehingga wafer mencapai suhu yang diperlukan. Ini merupakan cara yang mudah untuk memproses lebih banyak wafer tanpa perlu mengganti sumber kuasa atau mengubah susunan kabel elektrik. Ia hanya berfungsi dengan lebih baik.