リソグラフィーの工程では、フォトレジストを加熱する際にわずか0.5度でも温度がズレるだけで、制御されていた線幅が不安定になってしまいます。そうした状況では、一定の設定値を維持することは不可能です。そのため、私たちは赤外線加熱モジュールを開発しました。これにより、工程中の温度が一定範囲内に保たれ、シフトごとに安定した状態が維持されます。
技術的に重要な点 私たちは、迅速に反応するフィラメントを持つ短波長の赤外線エミッターを使用しているため、急速な温度上昇と安定した定常状態が実現します。ホットプレート上では、ウェーハ全体の温度均一性が±0.1℃以内に保たれ、ロット間の再現性は±0.2℃です。クローズドループ型の温度制御装置とPID制御により、ドアが開いても温度が変動しません。また、このモジュールはクラス1～100のクリーンルーム環境下で動作し、石英/セラミック製の構造により、粒子の発生や汚染が一切ありません。
なぜフォトレジスト処理に有効なのか ソフトベイクとハードベイクは、溶剤の除去やポリマーの架橋を促進します。私たちの赤外線加熱方式により、加熱時間が短縮され、かつ重要な寸法の制御が維持されます。また、迅速な反応により、無駄な熱が発生せず、エネルギー消費量も削減されます。
信頼性としては、モジュールは5,000時間以上稼働しても出力のばらつきが5％未満です。標準的なツールのサイズに合わせて交換可能なため、工程を継続して進めることができます。
注意すべき点 最適な性能を得るためには、エミッターのスペクトルをフォトレジストの吸光度に合わせ、また、モジュールの取り付け方法をツールの機械的・冷却機能に合わせる必要があります。PID制御を調整し、実際の基板における温度均一性を確認するために、短期間のテストを行うことをお勧めします。一度調整が完了すれば、数値上だけでなく、実際の温度も規定範囲内に保たれます。