真空腔体红外加热器

在300mm生产线上，软烘不是可选项——它就是你的热预算，直截了当。晶圆上2°C的温差就能导致关键尺寸（CD）产生纳米级偏移，而真空腔室只会加剧这种漂移。我们设计的真空腔室红外加热器就是为了消除这类变量，使温度保持可重复，满足光刻和薄膜工艺的需求。 关键技术细节 我们采用短波红外（NIR）发射器，...