ファブ用赤外線加熱モジュール

リソグラフィーの工程では、フォトレジストを加熱する際にわずか0.5度でも温度がズレるだけで、制御されていた線幅が不安定になってしまいます。そうした状況では、一定の設定値を維持することは不可能です。そのため、私たちは赤外線加熱モジュールを開発しました。これにより、工程中の温度が一定範囲内に保たれ、シ...